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第 2 章 第 2–3 週

半導體基礎物理

Basic Physics of Semiconductors

這章是整學期的地基,也是最多人放棄的一章。但其實它只講三件事:①矽裡面有兩種搬運工(電子與電洞)②我們可以「摻雜」去控制搬運工的數量 ③把 n 型和 p 型貼在一起,就變成二極體。

課本小節
  • 2.1 Semiconductor materials and their properties
  • 2.2 PN-junction diodes
  • 2.3 Reverse Breakdown
概念 01

導體、絕緣體、半導體

Conductors, Insulators, Semiconductors
白話講

想像一間教室:
導體=下課時間,小朋友到處亂跑(電子自由,很好導電)。
絕緣體=考試中,每個人黏在座位上不准動(完全不導電)。
半導體=上課中但老師不在。你敲一下桌子(給能量),就有幾個人跳起來跑動。它聽你的話——這就是半導體珍貴的地方。

正式說法:決定一個材料導不導電的關鍵是能隙bandgap, E_g——價電帶valence band和導電帶conduction band之間的能量差。電子必須拿到至少 Eg 的能量,才能從價電帶「跳」到導電帶去自由移動。

材料能隙 E_g意思
導體 conductor≈ 0 eV電子隨時可以跑,電阻極小
半導體 semiconductor(矽 Si)1.12 eV給點能量(溫度、光、電壓)就導電
絕緣體 insulator(SiO₂)> 5 eV幾乎不可能跳過去
一定要背:矽 (silicon) 的能隙 Eg = 1.12 eV,這數字期中考很愛考。eV 念做「electron-volt」電子伏特。
概念 02

矽的共價鍵

Silicon and Covalent Bonds
白話講

矽原子最外層有 4 隻手。它跟旁邊 4 個鄰居各牽一隻手,手就都牽滿了,大家很開心,誰也不跑。這時候矽是不導電的。

可是溫度一升高,大家開始「手汗」,偶爾有人手滑鬆開跑掉了——那個跑掉的就是自由電子,而他原本的位置空出一個洞,就是電洞。

正式說法:矽屬於週期表periodic table第 IV 族,有 4 個價電子valence electron,與相鄰四個矽原子形成共價鍵covalent bond,構成鑽石結構的晶格。在 T = 0 K 時所有鍵都完整,矽是完美的絕緣體。溫度升高時,部分共價鍵被熱能thermal energy打斷,產生自由電子。

SiSiSi SiSiSi SiSiSi T = 0 K:鍵都完整 → 不導電 升溫 SiSiSi SiSiSi SiSiSi − 自由電子 e⁻ + 電洞 hole(留下的空位)
熱能打斷一個共價鍵,就同時產生一個自由電子和一個電洞——它們永遠成對出現,叫 electron-hole pair(電子電洞對)。
概念 03

電子與電洞

Electrons and Holes
白話講

電影院坐滿了人,只有第 1 排空一個位子。第 2 排的人往前坐到那個空位,他原本的位子就空了;第 3 排的人再往前⋯⋯

從上面看下來,你會覺得「有一個空位在往後移動」。那個空位就是電洞。其實動的是人(電子),但把空位當成一個會動的東西來算,數學會簡單超多。

正式說法:電洞hole不是真的粒子,它是共價鍵上缺少電子的狀態。但在計算上我們把它當作一個帶 +q 正電、有等效質量的載子。電子帶 −q,電洞帶 +q,q = 1.6 × 10-19 C。

電子濃度 n(單位 cm-3) 電洞濃度 p(單位 cm-3)
怎麼念carrier concentration=載子濃度。「per cubic centimeter」=每立方公分。
兩者合稱載子carrier,也就是「搬運電荷的工人」。整本書都在討論怎麼控制這兩種工人的數量與流向。
常見誤解:電洞「往正極跑」不是因為它是個真的球在滾,而是因為電子往負極跑,空位看起來就往反方向移動。但考試計算時,就把電洞當成正電粒子算,不會錯。
概念 04

本質半導體與本質載子濃度

Intrinsic Semiconductor and n_i
白話講

純矽(什麼雜質都沒加)就叫本質半導體。「本質 (intrinsic)」的意思就是純的、什麼都沒加——只有矽原子,沒有磷也沒有硼。

這種材料裡的自由電子只能靠一個來源:熱能打斷共價鍵。而每斷一個鍵就同時生出一個電子和一個電洞——因為它們是成對生出來的,數量當然一樣多。

這個數字有多少?每立方公分大約 10 的 10 次方個。聽起來好多?其實矽原子有 5×10²² 個/cm³——等於五兆顆原子裡才有一個電子跑出來。所以純矽幾乎不導電。

ni = 5.2 × 1015 · T3/2 · exp( −Eg / (2 k T) ) cm-3
在 T = 300 K(室溫): ni ≈ 1.08 × 1010 cm-3
本質半導體中: n = p = ni
(摻雜後 n ≠ p,但 n·p = ni2 永遠成立)
對照組摻雜過的叫 外質半導體 (extrinsic semiconductor),下一個概念就會講。此時 n 與 p 不再相等,但 n·p = n_i² 這條關係永遠成立。
怎麼念n sub i=intrinsic carrier concentration(本質載子濃度)。k=Boltzmann constant,k = 1.38 × 10-23 J/K。
重點是趨勢不是數字:溫度 T 升高 → 指數項變大 → ni 暴增。能隙 Eg 越大 → ni 越小。這解釋了為什麼晶片會「越熱漏電越嚴重」。
⚠ 最常見的誤會:300 K 不是 300 度!
K 是克氏溫標 (Kelvin),不是攝氏。換算是 K = °C + 273,所以
300 K = 300 − 273 = 27°C,就是舒服的室溫,不是 300 度。

為什麼物理不用攝氏?攝氏的 0 度是「水結冰」,是人隨便挑的基準。克氏的 0 K 是絕對零度——粒子完全不動。公式裡的 kT 代表「有多少熱能」,熱能當然要從「完全沒有熱」開始算才有意義;用攝氏會算出負的能量。

公式每一項在說什麼:

項目意思影響
T3/2溫度越高,電子「可以待的位子」越多影響小
exp(−Eg / 2kT)有多少比例的電子跳得過能隙影響極大
k波茲曼常數,把溫度換算成能量的「匯率」1.38×10⁻²³ J/K
kT這個溫度下粒子平均有多少熱能300 K 時約 0.026 eV

關鍵全在指數那一項:它在問「電子手上的熱能 kT,跟那道牆 Eg 比起來夠不夠」。室溫下 kT ≈ 0.026 eV 而牆有 1.12 eV——牆比熱能高了 43 倍,所以只有極少數運氣特別好的電子跳得過去。

為什麼分母是 2kT 而不是 kT?因為打斷一個鍵要花 Eg 的能量,但一次會生出兩個載子(一個電子 + 一個電洞)。數學上是 n·p = ni2 ∝ exp(−Eg/kT),開根號得到 ni 時就多出那個 2。
自己驗算一次(室溫 300 K):
kT = 1.38×10-23 × 300 = 4.14×10-21 J = 0.0259 eV
Eg / (2kT) = 1.12 / (2 × 0.0259) = 21.6
exp(−21.6) = 3.9×10-10  T3/2 = 300 × √300 = 5196
ni = 5.2×1015 × 5196 × 3.9×10-10 ≈ 1.08×1010 ✓
順帶一提整學期都在用的 26 mV 也是從 300 K 來的:VT = kT/q = 4.14×10-21 ÷ 1.6×10-19 = 0.0259 V ≈ 26 mV。它不是憑空冒出來的數字,而是「室溫的熱能換算成電壓」。溫度變了,26 mV 也會跟著變。
這個數字到底多小?矽原子的密度是 5 × 1022 cm-3,而室溫下只有 1.08 × 1010 cm-3 的自由電子。兩者一比:
大約 4.6 兆個矽原子裡,才有一個電子跑出來。
打個比方:全世界有 80 億人,這個比例相當於把全人類找來五百多遍,才有一個人站起來。所以純矽幾乎完全不導電——這正是為什麼一定要摻雜。
考卷上會這樣寫 Determine the intrinsic carrier density of silicon at T = 600 K and compare it with that at T = 300 K. compare with=與⋯比較。這題 Razavi 課本例題有,答案是 600 K 時約 1.54 × 1015 cm-3,比室溫大了五個數量級。
概念 05

摻雜:n 型與 p 型

Doping: n-type and p-type
白話講

純矽太不導電了,怎麼辦?作弊——故意加一點「手的數量不對」的原子進去。

加磷(5 隻手):他跟 4 個鄰居牽完手,還多一隻手閒著 → 那隻手上的電子就自由了 → 多電子 = n 型(negative)。

加硼(3 隻手):他只有 3 隻手,牽不滿,缺一個 → 空出一個洞 → 多電洞 = p 型(positive)。

n 型 n-typep 型 p-type
摻雜物施體donor:磷 P、砷 As、銻 Sb(第 V 族,5 價電子)受體acceptor:硼 B(第 III 族,3 價電子)
濃度符號NDNA
多數載子majority carrier電子 electron,n ≈ ND電洞 hole,p ≈ NA
少數載子minority carrier電洞,p = ni² / ND電子,n = ni² / NA
質量作用定律 Law of Mass Action: n · p = ni2
怎麼念n times p equals n-i squared. 這條式子不管有沒有摻雜都成立(只要在熱平衡下)。
直覺理解:把電子塞很多進去,電洞會被「填掉」而變少,兩者乘積固定。多數載子變多 ⇒ 少數載子必定變少。
超級重要:n 型半導體整體仍然是電中性!因為磷原子放出一個電子後自己變成 +1 的離子,正負抵消。「n 型帶負電」是錯的,這是期中考陷阱題。
考卷上會這樣寫 A silicon sample is doped with ND = 1017 cm-3. Determine the electron and hole concentrations at T = 300 K. 答:n ≈ ND = 1017,p = ni²/ND = (1.08×1010)² / 1017 ≈ 1.17 × 103 cm-3。差了 14 個數量級——這就是為什麼叫「多數/少數」。
概念 06

漂移電流

Drift Current
白話講

一群人在廣場上亂走(熱擾動,平均沒有方向)。突然廣場傾斜了——大家就一邊亂走一邊往低處滑。那個「整體往下滑」的速度就是漂移速度。

傾斜的斜度=電場 E。滑得多順=遷移率 μ(路面滑不滑)。

漂移速度: v = μ E  (μ=mobility 遷移率,單位 cm²/V·s)
電流密度: Jtot = q ( n·μn + p·μp ) E
矽的典型值: μn = 1350 cm²/V·s, μp = 480 cm²/V·s
怎麼念J=current density(電流密度,單位 A/cm²)。mobility 念 /moʊˈbɪləti/。drift=漂移。
電子跑得比電洞快將近 3 倍(1350 vs 480)。這就是為什麼 NMOS 的電流能力比 PMOS 強,第 6、7 章會一直用到。

速度飽和velocity saturation:電場再大,載子也不會無限加速——撞來撞去會撞到極限,速度停在 vsat ≈ 107 cm/s。此時 μ 不再是常數。這是短通道元件(現代晶片)的重要現象。

考卷上會這樣寫 A uniform bar of n-type silicon with ND = 5×1016 cm-3 carries a current of 1 mA. Calculate the drift velocity of the electrons. carries a current of=流過的電流為。順序:由 I = J·A 求 J,再由 J = q n v 求 v。
概念 07

擴散電流

Diffusion Current
白話講

你在教室角落噴香水。就算沒有風,過一陣子整間教室都聞得到。為什麼?因為擠的地方的東西會自己跑到不擠的地方。

載子也一樣。哪裡電子多,電子就會自己往少的地方散開——這叫擴散,不需要電場。

電子擴散: Jn = + q · Dn · (dn/dx)
電洞擴散: Jp = − q · Dp · (dp/dx)
愛因斯坦關係 Einstein Relation: D / μ = k T / q = VT
熱電壓 Thermal Voltage: VT = k T / q ≈ 26 mV(室溫 300 K)
怎麼念D=diffusion constant(擴散係數,cm²/s)。dn/dx 念「the gradient of n」=濃度梯度。V-T 叫 thermal voltage。
26 mV 這個數字整學期會出現幾百次,一定要背起來。第 4 章 gm = IC / VT 就是它。
符號為什麼一正一負?因為電子帶負電,往右擴散 = 電流往左;電洞帶正電,往右擴散 = 電流往右。記法:電洞那條有負號(−q Dp dp/dx),電子那條是正號。
漂移 Drift擴散 Diffusion
驅動力電場 electric field濃度梯度 concentration gradient
公式J = q(nμn + pμp)EJ = qDn(dn/dx) − qDp(dp/dx)
比喻斜坡上滑下去香水自己散開
概念 08

PN 接面:平衡狀態

The PN Junction in Equilibrium
白話講

把一塊「電子很多的地」(n 型)和一塊「電洞很多的地」(p 型)貼在一起。

交界處的電子會衝過去找電洞,電洞也衝過來找電子,兩邊一碰面就互相抵消消失。結果交界處變成一條「什麼載子都沒有」的空白帶——叫空乏區。

但抵消後,n 側留下正離子、p 側留下負離子,就形成一個內建的電池,它會擋住後面的人再衝過去。衝過去的力(擴散)和擋回來的力(漂移)打平,就停下來了。

p n 空乏區 depletion region − −− − + ++ + 內建電場 E 電洞多電子多 V_0(內建電位) 電位 potential →
平衡時:擴散電流 = 漂移電流,淨電流為零。空乏區內只剩不會動的離子,所以又叫 space-charge region(空間電荷區)。
內建電位 Built-in Potential: V0 = VT · ln( NA · ND / ni2 )
典型值: V0 ≈ 0.7 ~ 0.8 V(矽)
怎麼念built-in potential 念「built-in po-TEN-shul」=內建電位,也叫 barrier potential(位障電位)。ln=natural log 自然對數。
摻雜越重,V0 越大。注意這個電壓量不到——你用三用電表去量二極體不會讀到 0.7 V,因為接觸點也會產生抵消的電位。
概念 09

順向偏壓與逆向偏壓

Forward and Reverse Bias
白話講

空乏區就像一道「牆」。

順偏(p 接 +,n 接 −)= 你去推那道牆,牆變矮了 → 大家可以衝過去 → 大電流。

逆偏(p 接 −,n 接 +)= 你去拉那道牆,牆變更高更厚 → 幾乎沒人過得去 → 幾乎沒電流。

這就是二極體「只讓電流單向通過」的原因!

順向偏壓 Forward Bias逆向偏壓 Reverse Bias
接法p 端接高電位n 端接高電位
位障V0 − VF(變矮)V0 + VR(變高)
空乏區寬度變窄 narrower變寬 wider
電流指數式暴增只剩極小的 I_S(漏電流)
主要行為導通 ON(像一條線)截止 OFF(像斷路),但像一顆電容
接面電容 Junction Capacitance: Cj = Cj0 / √( 1 − VD / V0 )
怎麼念junction capacitance=接面電容。逆偏時 VD 是負的,所以分母變大、Cj 變小。
逆偏的 PN 接面就是一顆「電壓可調的電容」,這種元件叫 varactor(變容二極體),收音機選台、手機的壓控振盪器都靠它。
考試陷阱:逆偏時的電流不是完全 0,而是極小的逆向飽和電流reverse saturation current IS(約 10⁻¹⁵ A 等級),它跟逆偏電壓幾乎無關,但對溫度極度敏感(每升 10°C 約加倍)。
概念 10

二極體的 I-V 方程式

The Diode I-V Characteristic
白話講

這是整學期最重要的一條公式,沒有之一。它在說:

「電壓每多一點點,電流就暴增好幾倍。」具體來說——電壓每加 60 mV,電流就變 10 倍。

所以二極體不是「0.7 V 才導通」,而是「電流大到你在乎的時候,電壓剛好差不多在 0.7 V 附近」。

ID = IS · [ exp( VD / VT ) − 1 ]
順偏時(VD ≫ VT)可簡化為: ID ≈ IS · exp( VD / VT )
反解電壓: VD = VT · ln( ID / IS )
怎麼念I-D equals I-S times, open bracket, exponential of V-D over V-T, minus one. 這叫 the diode equation 或 Shockley equation。
兩個好用的結論:電流差 10 倍 → 電壓差 VT ln10 ≈ 60 mV;電流差 e 倍(2.718)→ 電壓差 26 mV。
V_DI_D −V_BR 崩潰 breakdown ≈0.7 V 逆偏:I ≈ −I_S(幾乎為 0) 指數暴增 exponential
注意 x 軸左半邊(逆偏)電流幾乎貼著 0,右半邊一過 0.7 V 就往上衝——這個「膝點」就是所謂的 cut-in voltage(切入電壓)。
考卷上會這樣寫 A diode carries 1 mA at VD = 700 mV. Determine the voltage required for a current of 10 mA. Assume VT = 26 mV. Assume=假設(題目給你的條件,直接用)。解:ΔV = VT ln(10) = 26 × 2.3 ≈ 60 mV → 答案 760 mV。這種題幾乎必考。
概念 11

逆向崩潰:齊納與累崩潰

Reverse Breakdown (2.3)
注意:這一節在老師的講義裡屬於第 2 章(2.3 Reverse Breakdown),不是第 3 章。它的應用(穩壓器)才放在第 3 章。
白話講

逆向偏壓時二極體幾乎不導電——但那是「電壓還不夠大」的時候。

電壓拉到夠大,牆會被撞破,電流突然暴衝。這叫崩潰 (breakdown)。

撞破的方式有兩種:一種是硬扯(電場直接把電子從鍵上拔下來),一種是撞球連鎖(一顆高速電子撞出更多電子,像雪崩)。

齊納崩潰 Zener Breakdown累崩潰 Avalanche Breakdown
機制空乏區的強電場直接把共價鍵拉斷載子撞擊空乏區的固定離子,撞出更多載子(連鎖反應)
發生條件重摻雜、空乏區窄輕摻雜、空乏區寬
主導範圍約 VBR < 5 V約 VBR > 5 V
溫度係數負(溫度升高,V_BR 下降)正(溫度升高,V_BR 上升)
為什麼 5.1 V 的齊納二極體最常見?因為在 5 V 附近兩種機制同時存在,正負溫度係數剛好互相抵消,溫度穩定性最好。這是經典問答題。
崩潰不等於燒毀!只要把電流用電阻限制住,二極體在崩潰區可以安全地反覆工作——這正是齊納二極體拿來穩壓的原理。真正會燒毀的是功率過大(I × V 太高)。
考卷上會這樣寫 Compare Zener and avalanche breakdown in terms of mechanism, doping level, and temperature coefficient. in terms of=就⋯而言(題目在指定你要比較哪幾個面向,每一項都要寫到,漏一項就少分)。
白話講堂・由 Atlas 產生。內容依據課程教材與官方教學大綱整理,不是老師的官方講義,請以課堂公告為準。